EPM準分子激光微標記系統
系統特點EPM微標記系統是基于193nm準分子激光器的高性能系統主要由193nm深紫外準分子激光光源、光學傳輸系統、精密定位系統組成具有作用激光光源波長短、脈寬短、峰值功率高、能量密度大等特點特別適合于有機物、玻璃、陶瓷等材料表面的高精度微標記應用桌面放置,可選擇193nm/248nm波長可軟件定制,進行微溝道微孔等制作技術參數型號EPM激光波長193nm典型脈寬~10ns聚焦光斑最小30um能量密度>5J/cm2作用范圍100mm*100mm位置精...
系統特點EPM微標記系統是基于193nm準分子激光器...
查看詳細